郑州科佳四路质子混气管式pecvd系统(KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S)

    郑州科佳电炉有限公司是一家专业从事电炉产品的研发、生产与销售的高新技术企业。我公司产品具有升温快、节能、温控精度高、保温性能好、微电脑控制、可编程全自动升温降温、炉壁温度接近室温、使用寿命长等特点；产品型号达到上百种，并可根据客户需求定制各式炉型，以满足高校、科研院所和工矿企业做高温烧结、金属退火、气氛还原和质量检测之用，广泛应用于陶瓷、化工、电子、冶金、新材料开发、机械、耐火材料、建材、特种材料等领域的实验和生产，受到广大新老用户的一致好评。

主要产品有箱式马弗炉、管式电阻炉、真空炉、气氛炉、坩埚炉、CVD系统、牙科炉、升降炉、轨道炉、台车炉、退火炉、升降炉、微波烧结炉、烤瓷炉等标准及非标实验电炉和工业电炉，并提供各类电炉配件、加热元件及耐火材料。

       混气管式PECVD系统

产品型号：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S

主要用途：KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统广泛应用于沉积高质量SiO薄膜、Si3N4薄膜、金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管（CNT）等

KJ-T1200-S6015LK1-4Z5S多路混气管式PECVD系统，由KJ-T1200单温区管式炉、真空系统、质子流量计、射频电源系统系统组成。

混气管式PECVD系统是为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，环境温度在100-300℃，但反应气体在辉光放电等离子体中能受激分解、离解和离化，从而大大提高了反应物的活性，这些具有反应活性的中性物质很容易被吸附到较次温度的基本表面上，发生非平衡的化学反应沉积生成薄膜，因此这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。

适用范围：设备可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜，并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、高端装饰等领域。

产品参数：

      管式炉系统

炉管尺寸直径：60mm

加热区长度：440mm(更多规格可按照客户要求定制)

正常工作温度：1100℃

**高工作温度：1200℃

加热元件：掺钼合金加热丝

炉膛材质：采用日本进口炉膛材料，不掉粉、材料保温性能好、反射率高、温场均衡，抗热涨冷缩能力强

控温方式：智能化30段可编程控制（用户可选配液晶触摸屏显示）

真空系统

高真空分子泵组，高真空复合真空计

前级泵2升每秒，分子泵600升每秒

采用KF25系列波纹管和真空挡板阀连接

质子流量计

高精度质量流量计可准确的控制气体流量

气体流量范围为0-500ＳＣＣｍ误差为0.02%

出气真空压力表，内置气体混气系统，

不锈钢针阀计管道，标准双卡套接头

射频电源系统

输出功率：50-500W**大可调±1%

RF频率：13.56MHz，稳定性±0.005%

噪声：≤55DB

冷却：风冷

输入功率：1KWAC220V

提供相关配件：气炼石英炉管、真空法兰、高温手套、坩埚钩、热电偶、防烫罩、刚玉坩埚、炉塞