离心式涂膜器

#334II型离心式涂膜器 （Centrifugal Film Applicator ）
均匀的涂布涂层 
离心式涂膜器适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺。离心式涂膜器工作原理是旋转基片，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上，离心式涂膜器常用于各种溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。离心式涂膜器可在样品（长度由80mm到200mm）上涂上均匀的涂层，以用于测试。此种方法的优点为经济（节省时间），达到很高精度及具有良好的重现性。MYCRO离心式涂膜器专用于涂层厚度的一致性要求高的场合或非常薄的涂层。
使用方法 
离心式涂膜为台式仪器，包括一个金属箱、控制面板，带收集槽和保护罩的样品台。旋涂过程中一般可分为两个阶段，**平铺阶段，是以一个较低的离心力让胶液平铺于基材的表面，第二匀胶阶段，是以过高的离心力让胶液的涂覆达到理想的均匀程度。将被涂样品放在样品台上，用4个螺钉固定。将足够份量的涂料（5-10g）浇注到样品中心，然后以预设的速度旋转一段时间，离心机能使涂料均匀的扩展到样板上，多余的涂料将飞散到边缘并流入周围的槽中。用此方法涂布的涂层，其厚度不会随与轴心的距离而改变，即平均的分布在整个区域上。
技术数据 
尺 寸：宽：320mm 深：430mm 高：220mm 
净重：约18kg 
电源：230V,50Hz 
旋转速度：100-2000rpm 
旋转时间：5-300s 
黏度范围：10-20000Pas 
样品尺寸：**小80*80mm **大200*200mm 
材料厚度：金属板：**大1.25mm 
玻璃板：**大3.00mm 
木 板 ：**大4.00mm
主要特点旋转速度与旋转时间指引，因为不同涂料有不同的黏度、密度、固体物质成份和流动性能，下表给出的值只能作为一个粗略指引基础。
粘度（m Pas） 旋转速度（rpm） 旋转时间（秒） 涂层厚度（um）
1000 300 30 80
1000 600 15 80
1000 600 30 40
1000 600 60 30
1000 1500 30 20
100 300 30 40
100 600 15 40
100 600 30 20
100 600 60 15
100 1500 30 10
 
在预设旋转时间结束时，涂膜器将会自动关闭，可将样品从样品台上拿出。样品台和收集槽可拆下清洗。
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