X射线镀层膜厚仪(XDL)

X射线镀层膜厚仪采用全新数学计算方法,采用**新的FP（Fundamental Parameter）、DCM (Distenco Controlled Measurement)及强大的电脑功能来进行镀层厚度的计算，在加强的软件功能之下，简化了测量比较复杂镀层的程序，甚至可以在不需要标准片之下，一样精准测量。

X射线镀层膜厚仪可测元素范围：
氯(CL) – 铀(U)
可测量厚度范围：
原子序22-25，0.1-0.8μm≤
26-40，0.05-35μm
43-52，0.1-100μm
72-82，0.05-5μm
X-射线管：油冷,超微细对焦
高压：0-50KV(程控)
电脑系统：IBM相容,17”显示器

X射线镀层膜厚仪主要应用于小五金的测量（如：小螺丝、手表、眼镜、端子），大面积的样品（如：线路板），亦可测量药水含量，只需要将药水放进别外选购的测量杯便可以进行测量，这样便可以随时随地的监察电镀槽的药水状况如何，有效率地控制电镀生产，测贵金属成分可达到重复性约0.1%。